- chemical vapour deposition
- химическое парофазное осаждение
English-Russian dictionary of terminology cable technology.
chemical vapour deposition
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Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapour deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition — Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition, PECVD or sometimes PCVD, is the process by which chemicals are deposited onto a substrate using a Radio Frequency (RF) Plasma to split the precursors into active ions.TheoryPrecursor chemical enter the… … Wikipedia
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
Plasma enhanced chemical vapour deposition — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical Vapour Infiltration — Der Begriff chemische Gasphaseninfiltration (englisch chemical vapour infiltration, CVI) bezeichnet ein Verfahren, bei dem in Anlehnung an das CVD Verfahren (CVD = chemical vapour deposition) ein Bauteil nicht nur oberflächlich beschichtet wird,… … Deutsch Wikipedia
Combustion chemical vapor deposition — (CCVD) is a chemical process by which thin film coatings are deposited onto substrates in the open atmosphere. Contents 1 History 2 Principles and procedure 3 Remote combustion chemical v … Wikipedia
Metalorganic chemical vapor deposition — (MOCVD) is a chemical vapor deposition process that uses metalorganic source gases. For instance, MOCVD may use tantalum ethoxide (Ta(OC 2H 5) 5), to create tantalum pentoxide (Ta 2O 5), or Tetrakis Dimethyl Amino Titanium(IV) (TDMAT) to create… … Wikipedia
Metalorganic vapour phase epitaxy — (MOVPE), also known as organometallic vapour phase epitaxy (OMVPE) or metalorganic chemical vapour deposition (MOCVD), is a chemical vapour deposition method of epitaxial growth of materials, especially compound semiconductors from the surface… … Wikipedia
Electron beam induced deposition — (EBID) is a process of decomposing gaseous molecules by electron beam leading to deposition of non volatile fragments onto a nearby substrate. Process Focused electron beam of scanning electron microscope (SEM) or scanning transmission electron… … Wikipedia
